1. 简介
光刻掩模版（Mask Reticle），是微纳加工技术中光刻工艺中使用的图形母版。由不透光的遮光薄膜和透光的图形组成。主要应用在如集成电路，印刷电路板，平板显示器，微纳光学元件等。
我司的掩模板加工有两种方式：一为激光直写；另一为电子束直写。
2. 技术参数
| 基板材料 | 苏打玻璃、石英 |
| 最细线宽 | 1 μm |
| 线宽误差 | 0.15 μm |
| 基板尺寸 | 3” / 4” / 5” / 6” / 8” / 10” |
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